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          光刻應用
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                  XZC光刻過濾器采用一系列膜材料來有效地去除工藝中的污染物。消除了有害微粒污染,凝膠微橋缺陷,微泡空洞缺陷以及晶片表面上的金屬污染的可能性。高潤濕性膜不會阻礙空氣排出,導致較少的微泡形成和較短的吹掃時間。

                  優化過濾器設計可減少啟動過程中的化學品使用量,并較大程度的減少了在晶片表面氣泡缺陷的形成。過濾器清除空氣可防止形成微泡,這對于減少涂層缺陷和提高產量至關重要。過濾器的設計在兩端提供較低的壓差,并在分配過程中較大限度地減少氣泡的形成。

                  XZC的過濾器設計使用大表面積,低壓差,從而提高凝膠去除效率和最小化微泡形成。

                  低操作壓力確保過濾器在分配過程中不會導致光化學物質釋放出氣體,因為它們在分配過程中從高壓分配到低壓。這可以通過具有低壓降的過濾器來實現。尼龍6,6和高密度聚乙烯膜與典型的光刻化學品完全兼容,在提取物方面極其干凈,并具有優異的潤濕性。



           


                  




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